중국 국산 DUV, ASML 2007년 사양 수준 그쳐

중국이 자체 제작한 심자외선(DUV) 노광장비로 28nm 공정 양산에 돌입했다는 소식이 전해졌지만, 실제 성능 좌표를 따져보면 기술 격차는 여전히 뚜렷하다는 분석이 제기됐다. 상업용 28nm 노드에서 이머전 DUV가 실제 대량 양산(HVM)에 투입되기 위한 최소 기준선은 ASML이 2007년 내놓은 XT:1900i 사양으로 평가된다. 구체적으로는 오버레이 정확도(MMO) 6nm 이하, 시간당 웨이퍼 처리량 130장 이상을 확보해야 상업 생산에 의미 있는 수율과 원가 구조를 만들 수 있다는 것이다. 반면 미국과 네덜란드의 수출 통제 아래에서 중국 반도체 공장이 합법적으로 들여올 수 있는 최상단 모델은 2013년 출시된 NXT:1965Ci다. 이 장비의 MMO는 4.5nm, 처리량은 250wph 수준으로, XT:1900i 대비 정밀도와 생산 효율 모두 큰 폭으로 개선된 사양이다. 즉 규제선 자체가 이미 중국 국산 장비보다 한 세대 이상 앞서 있는 셈이다. 이번에 거론된 중국의 국산 DUV 양산 진입은 결국 XT:1900i 급 성능대의 하단부에 겨우 도달한 수준으로 해석된다. 28nm 공정을 자국 장비로 돌리기 시작했다는 상징성은 크지만, 이는 ASML이 약 20년 전에 구현해 놓은 기술 지점이며 웨이퍼당 원가와 수율 경쟁력에서는 상당한 열위가 불가피하다. 시장 관점에서 보면 노광장비 공급망의 병목은 단시일 내 해소되기 어렵다는 점이 재확인된 셈이다. 중국의 자립 속도가 첨단 노드는 물론 레거시 노드에서도 예상보다 완만하다면, 글로벌 노광장비 독점 사업자의 중장기 수요 기반과 서비스 매출 흐름은 견조하게 유지될 가능성이 높다. 다만 중국이 처리량과 오버레이를 단계적으로 끌어올릴 경우 레거시 노드 장비 수요부터 잠식이 시작될 수 있어, 향후 개선 속도에 대한 모니터링이 필요하다.