AI 요약
- •대만 최대 메모리 업체 난야가 155억 달러 규모 타이산 신공장을 내년 초 가동, 자사 첫 EUV 노광 공정을 도입한다
- •선두 메모리 기업들과의 기술 격차 축소를 노리며, 엣지 AI용 HBM 대체재로 커스텀 Ultra-Wide-I/O 메모리를 개발 중이다
- •웨이퍼 온 웨이퍼(WoW) 적층 기술도 개발하며 차세대 메모리 경쟁에 본격 진입한다
뉴스 기사
대만 최대 메모리 반도체 기업 난야 테크놀로지가 총 5,000억 대만달러(약 155억 달러) 규모로 건설 중인 타이산 신공장을 내년 초 가동한다고 현지 언론이 전했다. 이번 공장은 난야가 처음으로 EUV(극자외선) 노광 공정을 적용하는 생산 거점으로, 회사는 이를 통해 선두 메모리 업체들과의 기술 격차를 좁힌다는 구상이다. 난야는 신규 캐파 확보와 공정 미세화를 넘어 차세대 메모리 개발에도 속도를 내고 있다. 특히 엣지 AI 시장을 겨냥한 커스텀 Ultra-Wide-I/O 메모리를 개발 중이며, 이를 고대역폭 메모리(HBM)를 대체할 수 있는 잠재적 대안으로 제시했다. 여기에 여러 웨이퍼를 수직으로 접합하는 웨이퍼 온 웨이퍼(WoW) 적층 생산 기술도 병행 개발하고 있다. 난야의 EUV 도입은 ASML의 노광장비 신규 수요로 직결되며, 마이크론·SK하이닉스·삼성전자 등 기존 선두 업체들에게는 중장기적으로 후발 경쟁 압력이 될 수 있다. 다만 엣지 AI용 대체 메모리와 WoW 기술은 아직 개발 단계로, 실제 양산과 시장 침투 여부가 향후 관전 포인트다.
AI 투자 인사이트
난야의 첫 EUV 도입은 ASML 장비 수요에 긍정적이며, 엣지 AI용 HBM 대체 메모리 개발은 차세대 메모리 경쟁 구도의 변수로 주목할 필요가 있다.
