High-NA EUV, 인텔 18A 양산 진입

차세대 노광 기술인 High-NA EUV가 실험실 단계를 넘어 실제 양산 현장에서 의미 있는 이정표를 세웠다. ASML은 인텔 파운드리가 일부 Intel 18A 공정 레이어에 대해 High-NA EUV를 활용한 고용량 양산(HVM)에 돌입했다고 발표했다. 이 공정은 인텔의 차세대 클라이언트 프로세서 라인업인 Panther Lake 관련 제품에 적용된다. 그동안 High-NA EUV는 로드맵상의 미래 기술로만 인식되는 경향이 강했으나, 이번 발표로 상업적 양산에서 실제 작동하는 기술이라는 점이 입증됐다. 이는 단순한 기술 시연이 아니라 제조 검증 사례로 평가된다. 장비 공급사인 ASML 입장에서는 초고가 High-NA 장비의 시장 실효성과 향후 채택 확대 기대감을 키우는 재료다. 동시에 인텔 파운드리로서는 18A 공정의 양산 이행 능력을 대외적으로 확인시키며 첨단 공정 경쟁에서 입지를 강화하는 계기가 된다. 다만 적용 범위가 '일부 레이어'에 국한된 점은 유의할 부분으로, 전면 확대 여부와 수율 안정화가 향후 관전 포인트가 될 전망이다.