AI 요약
- •ASML 2Q 시스템 매출 65.6억 유로 중 EUV 비중 57%, 대당 평균판가 약 2.34억 유로
- •상반기 EUV 32대 인식(Low-NA 29대, High-NA 3대), 연간 Low-NA 약 65대 출하 예상
- •2025년 EUV 매출 116억 유로 기준 45% 성장 적용 시 FY26 EUV 매출 약 168억 유로 추정
뉴스 기사
네덜란드 반도체 장비업체 ASML의 2분기 실적이 EUV(극자외선) 노광장비의 강한 수요를 재확인시켰다. 분기 시스템 매출 65억6000만 유로 가운데 EUV가 57%를 차지했으며, 시스템 대당 평균판매단가(ASP)는 약 2억3400만 유로에 달했다. 제품별 인식 대수는 EUV 16대, ArFi 23대, ArF 드라이 8대, KrF 35대, i-라인 9대로 집계됐다. 상반기 누적으로는 EUV 32대가 매출로 인식됐는데, 이 중 29대는 기존 Low-NA 방식의 NXE, 3대는 차세대 High-NA 방식의 EXE 장비였다. High-NA 장비의 실적 편입이 본격화되고 있다는 신호다. 회사 측은 연간 약 65대의 Low-NA EUV 장비를 출하하고 전체 EUV 매출을 약 45% 성장시킬 것으로 내다봤다. 2025년 EUV 매출 기반인 약 116억 유로에 이 성장률을 적용하면 2026 회계연도 EUV 매출은 약 168억 유로 규모에 이를 것으로 추산된다. 리소그래피 장비 시장을 사실상 독점하는 ASML의 이 같은 가이던스는 AI 반도체 수요에 힘입은 첨단 공정 투자가 지속되고 있음을 보여준다. High-NA 장비의 출하 확대는 파운드리와 메모리 업체들의 차세대 미세공정 전환이 예상보다 빠르게 진행될 수 있음을 시사한다.
AI 투자 인사이트
EUV·High-NA 매출 확대와 FY26 45% 성장 가이던스는 AI발 첨단 공정 투자 사이클이 견조함을 확인시키는 긍정 신호다.
