인텔, ASML High-NA EUV로 팬서레이크 생산

네덜란드 반도체 장비 업체 ASML이 화요일 인텔의 차세대 노광장비 도입 소식을 공식 발표했다. 인텔이 ASML의 최첨단 High-NA EUV(극자외선) 장비를 활용해 주력 노트북 프로세서인 Panther Lake 제품군 일부를 생산하기로 결정했다는 내용이다. 양사는 2024년부터 해당 장비를 이용한 시험 생산을 지속해왔으며, 이번에 실제 양산 라인에 적용하는 단계까지 진전을 이뤘다. 인텔은 이를 통해 High-NA EUV 장비의 운용 노하우를 조기에 축적하고, 미세 공정 전환에 필요한 핵심 역량을 선점할 수 있을 것으로 기대된다. High-NA EUV는 기존 EUV 대비 더 높은 개구수(NA)를 갖춰 한층 미세한 회로 패턴 구현이 가능한 차세대 노광 장비로, 대당 가격이 수천억 원에 달하는 고가 장비다. 이번 인텔의 양산 적용은 High-NA EUV가 연구·시험 단계를 넘어 상용 제조 공정에 안착하고 있음을 보여주는 상징적 사례로 평가된다. 장비 공급사인 ASML의 차세대 제품 상용화 로드맵에 힘이 실리는 한편, 인텔로서는 첨단 공정 리더십 회복을 위한 발판이 될 전망이다.