AI 요약
- •대만 최대 DRAM 업체 난야가 2027년 설비투자를 NT$2000억(62억 달러)으로 올해 NT$500억+ 대비 4배 확대
- •신규 팹에서 2028년까지 월 3만장 웨이퍼 생산능력 확보, 최종 4만5000장까지 확대 목표
- •총 NT$4800억 규모 팹 프로젝트에 현재까지 약 NT$1000억 투입 완료
뉴스 기사
대만 최대 D램 제조사인 난야 테크놀로지(Nanya Technology)가 2027년 설비투자(캡엑스) 규모를 대폭 확대할 계획인 것으로 현지 언론이 보도했다. 계획된 투자액은 NT$2000억(약 62억 달러)으로, 올해 집행 규모인 NT$500억대와 비교하면 약 4배에 달하는 공격적인 증액이다. 이번 투자는 난야가 추진 중인 신규 팹 구축과 맞물려 있다. 회사는 2028년까지 신규 팹에서 월 3만장(30,000wpm)의 웨이퍼 생산능력을 확보하고, 최종적으로는 월 4만5000장(45,000wpm) 규모까지 생산능력을 끌어올린다는 목표를 세웠다. 총 NT$4800억 규모의 팹 프로젝트 가운데 현재까지 약 NT$1000억이 이미 투입된 것으로 전해졌다. 대규모 캡엑스 증액은 반도체 전공정 장비 업체들에게 직접적인 수혜 요인이다. 난야는 이번 소식과 함께 어플라이드 머티어리얼즈(AMAT), ASML, 램리서치(LRCX), KLA(KLAC) 등 주요 장비주를 함께 언급했다. 신규 팹 램프업 과정에서 노광·식각·증착·검사 장비 발주가 순차적으로 발생할 것으로 예상되며, 이는 D램 업황 회복 국면에서 장비 사이클 반등을 뒷받침하는 신호로 해석된다. 난야가 상대적으로 후발 D램 업체임에도 공격적 증설에 나서는 점은 메모리 공급 확대 흐름과 업황 자신감을 시사한다.
AI 투자 인사이트
난야의 4배 캡엑스 증액은 D램 증설 사이클 재개 신호로, ASML·AMAT·LRCX·KLAC 등 전공정 장비주에 중장기 수주 모멘텀으로 작용할 전망이다.
